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第五十一章 追光行动（1）（第4页）

好吧，此刻的小屁孩，真的非常帅气。

小奶狗一般！

比偶像剧里的长腿欧巴还帅！

然而，萧雅很快就收敛了心神，她知道自己此刻的角色，她需要保持专业，她来这里是为了支持卿云的，而不是……

来犯花痴的。

她深吸了一口气，将注意力重新集中在了会议的内容上，准备随时提供帮助。

但内心深处，却已经为卿云刚才的表现暗暗打上了满分。

云帝在会议室前面继续说着，“这就要求芯片内部制造得越来越精细，如今先进工艺制程的两个起点之间只能有纳米级别的距离了。

如此精细的产品，便需要用放大的思想来制造。

传统的放大方法——杠杆等机械结构无法满足纳米级精度的雕刻。

因此人们想到了用光来放大，原理类似我们常见的投影机。光刻机的核心就是将光通过一个可以放大的透光的模子，照射到硅片上，从而印出想要的形状，也就是芯片的内部结构……”

“光刻技术对光源有着极为苛刻的要求。这就涉及到第二个原理——瑞利判据。

想要制造出更小的尺寸，就需要能分辨更小的尺寸。

瑞利判据中，λ为光源波长、ΝΑ为数值孔径、k为光刻工艺系数，三者共同决定投影式光刻机分辨率CD……”

卿云一点一点的回顾着历史，这次依然是站在一根时间轴上同时对华国和世界进行着对比。

“根据公式可以看出，光刻机的分辨率与光源波长成正比，想要制造出更小的尺寸，就需要缩短光源的波长，这也是光刻机世代演变的核心。

到今天，光刻机历经四代，从g-line436nm起步，卡在了第四代Arf193nm上十余年无法寸进。

而我们在徐老爷子的带领下攻克了前两代光刻机，华国微电子去年也开始启动了第四代Arf193nm的研究……”

说到这里，卿云耸了耸肩膀，“其实，我们不慢，但是我们的对手更快。”